1、保持合适的(de)pH值。
吸收塔内漿液pH計測量不(bù)準确，pH值上(shàng)下波動大(dà)，就(jiù)會使得輸送的(de)新鮮石灰石漿液用量不(bù)是(shì)真正的(de)需要(yào / yāo)量，而(ér)過量輸送新鮮石灰石漿液至吸收塔内，會導緻石膏純度下降，造成石膏水分不(bù)宜脫除。吸收塔漿液pH值與一(yī / yì ／yí)些重要(yào / yāo)信号，如鍋爐負荷、FGD進口SO2、新鮮石灰石漿液密度一(yī / yì ／yí)并綜合起來(lái)，用于(yú)确定需要(yào / yāo)輸送至吸收塔的(de)新鮮石灰石漿液量。随着新鮮石灰石漿液（CaCO3）的(de)加入，吸收塔内漿液将達到(dào)某一(yī / yì ／yí)pH值，高pH值的(de)漿液環境有利于(yú)SO2的(de)吸收，而(ér)低pH值則有助于(yú)Ca2-的(de)析出(chū)，二者相互對立。
在(zài)一(yī / yì ／yí)定範圍内随着吸收塔漿液pH值的(de)升高，脫硫效率一(yī / yì ／yí)般呈上(shàng)升趨勢，但當pH值升至臨界值時(shí)脫硫效率不(bù)會持續上(shàng)升，這(zhè)時(shí)再提高吸收塔漿液pH值，吸收塔内漿液反應活性反而(ér)變小，脫硫效率降低，導緻石膏漿液中的(de)碳酸鈣（CaCO3）含量增加，二水硫酸鈣晶體（CaSO4••2H2O）含量降低，即降低了(le／liǎo)石膏品質，帶來(lái)石膏脫水困難。
2、保持吸收塔液相停留時(shí)間。
石膏結晶是(shì)一(yī / yì ／yí)個(gè)動态平衡過程，新晶種的(de)形成和(hé / huò)晶體長大(dà)同時(shí)進行，石膏漿液隻有在(zài)結晶到(dào)一(yī / yì ／yí)定程度才被允許排出(chū)。因此，必須使石膏漿液在(zài)吸收塔内保持一(yī / yì ／yí)定的(de)停留時(shí)間，
石膏漿液停留時(shí)間爲(wéi / wèi)吸收塔氧化池最大(dà)容積與單位時(shí)間排出(chū)石膏量之(zhī)比。漿池容積與石膏排出(chū)時(shí)間決定了(le／liǎo)晶體形成空間以(yǐ)及漿液在(zài)吸收塔形成晶體及停留的(de)總時(shí)間。
漿池容積大(dà)，石膏排出(chū)時(shí)間長，亞硫酸鈣（CaSO3••1/2H2O）更易氧化，有利于(yú)石膏晶體長大(dà)。但石膏排出(chū)時(shí)間過長，會增大(dà)漿液循環泵對已有晶體的(de)破壞。
一(yī / yì ／yí)般石膏漿液過飽和(hé / huò)度所需停留時(shí)間爲(wéi / wèi)5-16min。漿液池提供石膏結晶時(shí)間爲(wéi / wèi)10-25h，提供給石灰石溶解時(shí)間爲(wéi / wèi)10-16 min（與漿液細度、活性、漿液pH值等有關），這(zhè)二者的(de)時(shí)間計算爲(wéi / wèi)漿液池中含固量除以(yǐ)排石膏量。
3、保持石膏脫水設備和(hé / huò)系統正常運行
在(zài)石膏旋流器運行過程中，應檢查旋流器進口壓力是(shì)否控制在(zài)設計範圍，同時(shí)對頂流和(hé / huò)底流取樣分析，确定旋流子(zǐ)分配比。石膏旋流器溢流含固率一(yī / yì ／yí)般控制在(zài)1%-3%左右，底流含固率一(yī / yì ／yí)般控制在(zài)45%-50%左右，發現偏離正常值時(shí)應通過運行分析及時(shí)查明原則。對石膏旋流器應定期進行清理維護并檢查旋流子(zǐ)磨損情況。
真空皮帶機是(shì)石膏二次脫水的(de)重要(yào / yāo)設備，脫水效果與漿液的(de)性質、濾布清潔程度有較大(dà)聯系。真空皮帶脫水機濾液分離器真空表能直觀地(dì / de)反映皮帶脫水機的(de)真空度，真空度與石膏含水率呈有規律的(de)變化。真空度升高，反映出(chū)濾液水通過濾布時(shí)的(de)壓降增加，其結果爲(wéi / wèi)所出(chū)石膏的(de)含水率增大(dà)。
真空增加的(de)原因，一(yī / yì ／yí)是(shì)脫水設備運行不(bù)正常，如濾布沖洗不(bù)徹底、不(bù)幹淨、沖洗噴嘴堵塞或濾布使用周期過長，濾布受油污等物質污染等，都會使脫水效果變差，脫水不(bù)暢。二是(shì)石膏漿液本身性質的(de)變化，如石膏漿液中小顆粒石膏晶體增多或石膏漿液中雜質含量增加等引起濾布通道(dào)的(de)堵塞，使石膏漿液中的(de)水不(bù)易從濾布孔隙分離出(chū)來(lái)。
真空脫水皮帶機的(de)真空度低于(yú)正常值，其可能原因爲(wéi / wèi)：小皮帶與真空槽、皮帶孔相對位置偏移、真空系統洩漏、濾餅厚度不(bù)足、濾布有破損、真空泵出(chū)力不(bù)足等。因此，應加強對真空皮帶脫水機、真空泵設備的(de)定期清洗、維護，特别是(shì)濾布和(hé / huò)真空系統爲(wéi / wèi)重點檢查維護對象。
4、提高石膏純度。
在(zài)吸收反應中，Ca2-遇SO42- 并結晶生成二水硫酸鈣（CaSO4••2H2O）速度較慢，在(zài)吸收氧化的(de)漿液中，石膏的(de)結晶受漿液中二水硫酸鈣（CaSO4••2H2O）過飽和(hé / huò)度、漿液溫度、pH值、攪拌方式等影響。石膏晶體的(de)形狀、大(dà)小直接影響到(dào)石膏脫水系統中旋流器能否正常工作。石膏晶體的(de)粒徑越大(dà)，越有利于(yú)石膏旋流器将二水硫酸鈣晶體（CaSO4••2H2O）和(hé / huò)未反應的(de)碳酸鈣（CaCO3）的(de)分離開來(lái)。以(yǐ)降低石膏中的(de)碳酸鈣（CaCO3）含量。因此，控制好石膏漿液在(zài)過飽和(hé / huò)度情況下的(de)等溫結晶過程，就(jiù)可獲得粗大(dà)、均勻的(de)結晶體，從而(ér)有效地(dì / de)控制石膏的(de)純度。
5、保持合理的(de)吸收塔循環漿液密度。
吸收塔循環漿液密度是(shì)FGD系統運行的(de)重要(yào / yāo)控制參數之(zhī)一(yī / yì ／yí)。晶體的(de)生長于(yú)漿液的(de)過飽和(hé / huò)度密切相關。當石膏漿液的(de)過飽和(hé / huò)度達到(dào)一(yī / yì ／yí)定程度時(shí)就(jiù)會形成晶種，并逐漸生長生成石膏晶粒。但當石膏漿液的(de)過飽和(hé / huò)度超出(chū)一(yī / yì ／yí)定值後，晶種的(de)生長速率超過石膏晶粒的(de)生長速度，晶種往往就(jiù)會在(zài)未發生反應的(de)石灰石顆粒表面生長（晶種包裹石灰石顆粒），造成石灰石漿液利用率和(hé / huò)脫硫效率的(de)下降。
此外，石膏漿液的(de)過飽和(hé / huò)度的(de)控制還應特别注意初始過飽和(hé / huò)度與生成晶體的(de)大(dà)小有關，如果初始過飽和(hé / huò)度越大(dà)，則所得晶體的(de)尺寸就(jiù)越小。因此，通常在(zài)FGD系統投運初期，采用在(zài)吸收塔循環漿液中添加二水硫酸鈣（CaSO4••2H2O）晶體作爲(wéi / wèi)晶種，使得二水硫酸鈣（CaSO4••2H2O）結晶過程盡可能在(zài)過飽和(hé / huò)度與溫度都較穩定的(de)條件下進行，從而(ér)得到(dào)顆粒粗大(dà)而(ér)整齊的(de)石膏晶體。
6、保持氧化風量及其利用率。
進入吸收塔的(de)氧化空氣是(shì)提供亞硫酸鈣氧化生成硫酸鈣所必須的(de)氧氣。因此，氧化風量必須能夠滿足系統要(yào / yāo)求，且要(yào / yāo)求分布均勻并達到(dào)一(yī / yì ／yí)定的(de)利用率。否則，石膏漿液中的(de)亞硫酸鈣就(jiù)會超标，最終導緻無法形成合格的(de)石膏晶體，
亞硫酸鈣的(de)氧化速率與亞硫酸氫根（HSO3）濃度、氧氣（O2）濃度、pH值、溫度、煙氣中氧氣對SO2的(de)比率、漿液的(de)循環率、漿液的(de)黏度和(hé / huò)密度等綜合因素有關。HSO3與O2反應速率很快，但O2在(zài)漿液中的(de)溶解度非常有限，因此氧化速率常常受O2在(zài)液膜中的(de)擴散能力的(de)影響。pH值的(de)高低影響漿液中HSO3的(de)濃度，pH值越低，漿液中HSO3的(de)濃度越高，當pH值＜6時(shí)，SO2在(zài)水中主要(yào / yāo)以(yǐ)HSO3形态存在(zài)，pH值在(zài)3.5-4.5之(zhī)間，幾乎全部爲(wéi / wèi)HSO3形态存在(zài)。根據氧化速率與pH值的(de)關系，當pH值＞5.5時(shí)，氧化速率急劇下降。因此，控制pH值在(zài)适當低值範圍内對亞硫酸鈣氧化是(shì)有利的(de)，這(zhè)就(jiù)爲(wéi / wèi)形成合格的(de)石膏粉晶體奠定了(le／liǎo)基礎。
客服1